Технология тонкопленочного барьерного покрытия методом осаждения из атомных слоев Picosun (ALD) предлагает решение, исключающее использование опасных технологических газов, гексафторида серы (SF ₆ ) и трифторида азота (NF ₃ ).

В современных способах нанесения покрытий методом химического осаждения из паровой фазы (CVD) необходимо выращивать относительно толстые пленки, чтобы получить желаемый уровень производительности для достижения требуемых характеристик, например защита от влаги, защита от коррозии, пассивация или изоляция. Из-за быстрого накопления пленки на стенках оборудования для нанесения покрытия камера осаждения должна регулярно очищаться от остатков пленки. Обычно это выполняется с помощью очистки камеры с помощью плазмы SF ₆ или NF ₃ .

SF ₆ является самым сильным парниковым газом из когда-либо известных, с потенциалом глобального потепления в 22600 раз выше, чем у CO ₂ (для NF ₃ коэффициент равен 17200) и остается в атмосфере не менее 1000 лет. Выбросы SF ₆ в ЕС только в 2017 году имели парниковый эффект, равный 1,4 миллиона автомобилей. Следовательно, использование этих газов подлежит постоянному контролю и усилению регулирования.

При переходе на технологию барьерного наноламинатата Picosun ALD можно получить непревзойденные барьерные характеристики с очень тонкими, без проколов пленками. Это также устраняет необходимость чистки оборудования для осаждения после каждых нескольких технологических процессов. При обычном производственном использовании реакционную камеру Picosun ALD очищают только один раз в 3–6 месяцев, и достаточно простой механической струйной обработки вместо обработки плазмой на основе фтора.

«Мы в Picosun хотим использовать нашу технологию ALD для устойчивого будущего. Борьба с изменением климата всеми возможными средствами требует сотрудничества между инновационными отраслями и поставщиками решений. Путем замены толстых покрытий, изготовленных экологически безопасными, энергоемкими и ресурсоемкими методами, на наши ультратонкие стопки пленок ALD, достигается значительная экономия материалов и затрат, а опасные газы не нужны при очистке оборудования », – резюмирует г-н Юхана Костамо, заместитель генерального директора Picosun Group.

Источник: www.picosun.com