Graphenea объявляет о выпуске нового продукта – высокоплоского монослоя графена. Графен выращивают методом ХОПФ на медной тонкой пленке на 2-дюймовой сапфировой подложке. С чрезвычайно низкой шероховатостью, составляющей менее 4 нм, этот новый продукт предназначен для применений в фотонике, высокопроизводительной электронике, магнитной памяти и отдельно стоящих мембранах.

Продукт направлен на удовлетворение требований интеграции в масштабе пластин для создания однородных графеновых устройств способом, совместимым с современными методами промышленного производства. Плоский графеновый продукт готов к переносу электрохимическим расслоением или сухим способом, поскольку сапфировая подложка достаточно прочна, чтобы противостоять механическим повреждениям, предотвращая разрывы и складки тонкого листа меди. Общая толщина пластины составляет 430 микрометров. Полная информация о товаре доступна в интернет-магазине.

Источник: https://www.graphenea.com/